Logo

Menu:


Novinky:

Feb 26, 2008:
Slovenská verzia webstránky!

Apr 15, 2006:
Prvé spustenie tejto stránky!

Apr 13, 2006:
Beta verzia spustená!



Dátum poslednej aktualizácie:
21. január, 2012

Výskumné aktivity

Fotorefraktívny jav v kryštáloch LiNbO3

Fotorefraktívny jav bol po prvýkrát pozorovaný v kryštáloch niobátu lítia (LiNbO3) a tantalátu lítia LiTaO3 v roku 1966. Odvtedy sa tomuto javu venuje vo svete značná pozornosť. Niektoré výsledky získané pri štúdiu javu viedli k príprave nových fotorefraktívnych materiálov a to nielen kryštálov, ale i rôznych polymérov a skiel. Hoci od prvej zmienky o tomto jave uplynulo už veľa času, stále sa pochopenie fotorefraktívneho javu v kryštáloch považuje za neúplné. Hlavným dôvodom je komplexnosť problému - interakcia svetla a látky. V rokoch 1999-2000 sa zistilo, že fotorefraktivita kryštálu LiNbO3 veľmi silno závisí na koncentrácii a vzájomnom spolupôsobení vlastných a nevlastných porúch. V našom laboratóriu vyšetrujeme možné mechanizmy zodpovedné za fotorefraktivitu LiNbO3 s cieľom prispieť k hlbšiemu porozumeniu javu. Vo všeobecnosti sú známe tri metódy vyšetrovania fotorefraktívneho javu:

    - optická polarizačná metóda
    - holografická metóda
    - štúdium optických záznamov pomocou interferenčného zobrazenia.

Holografická metóda je veľmi známa a pravdepodobne aj najviac používaná. Metóda spočíva v šúdiu časovej závislosti difrakcie svetla dopadajúceho na záznam v priebehu jeho vzniku a/alebo zániku. V našom laboratóriu sme vyvinuli metódu, ktorá z vyššie spomenutých metód je uvedená na poslednom mieste. Táto metóda je založená na analýze interferenčného obrazu fotorefraktívneho záznamu.

Charakterizácia optických polí skenovacími diagnostikami

Rastrovacia optická mikroskopia s využitím ťahaných optických vlákien sa stala v posledných rokoch aplikačne zaujímavá zvlášť pre charakterizáciu optoelektronických zariadení. Rastrovacia optická mikroskopia blízkeho poľa (NSOM) je technika, kde malá optická sonda je umiestnená do vzdialenosti zlomku vlnovej dĺžky k povrchu vzorky a rastruje povrch. Táto technika umožňuje dosiahnuť priestorové rozlíšenie v ráde 10nm (v našich podmienkach <100nm), čo značne prevyšuje rozlíšenie konvenčných optických mikroskopov. Vysoké rozlíšenie NSOM metodiky je dané špeciálnymi optickými sondami pripravenými ťahaním optických vlákien s priemerom hrotu v ráde 20-100nm. Optické polia je možné potom rastrovať použitím takto pripravených optických sond. Rastrované optické pole v hrote optickej sondy vytvára evanescentné optické pole, ktoré sa z hrotu čiastočne vyžaruje a čiastočne sa vláknom šíri. V našej zostave využívame optické vláknové hroty v kombinácii s 3D mikropozičným stolíkom ako NSOM pracovisko.

Aplikáciou metodiky zobrazovania blízkeho poľa a spektroskopie v blízkom poli pre optoelektronické zariadenia dostávame informáciu o štruktúre s rozlíšením lepším ako vlnová dĺžka. Výhody tejto techniky môžu byť využité pre rastrovanie rôznych optických prvkov ako LED, lasery, fotonické kryštály a fotonické kryštálové vlákna. NSOM diagnostika v kombinácii s laserovými zdrojmi žiarenia otvára možnosti vyšetrovania optických vlastností nových materiálov aplikovaných zvlášť v tenkých vrstvách.